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首頁 產品 水漾再生補水面膜
THIRSTYMUD™ HYDRATING TREATMENT
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THIRSTYMUD™ HYDRATING TREATMENT

水漾再生補水面膜

HK$490.00
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THIRSTYMUD™ 水漾再生系列,注入頂級水活科技,直達肌底, THIRSTYMUD™ 長效補水、鎖水、儲水及高效舒緩鎮靜,肌膚吋吋水漾亮澤。 適合男女使用。令人心動的水漾亮肌,從THIRSTYMUD™ 開始!
建議需要時使用或每星期2-3次。於潔淨乾爽肌膚上,均勻薄抹一層。可使用於面部、頸部及前胸部位。 日間: 塗抹後靜待10-20分鐘,有助全面滲透,然後以紙巾輕拭,並按摩肌膚,促進吸收餘下修護成分,或以清水洗淨。夜間: 塗抹後免沖洗,醒來迎接超水漾美肌。飛行間: 起飛前抹勻全面,靜待完全滲透吸收。TIP: 舒緩鎮靜鬚後肌膚,重注水漾活力
Water, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, Butylene Glycol, Cyclopentasiloxane, Pyrus Malus (Apple) Fruit Extract, Peg-8, Peg-100 Stearate, Glyceryl Stearate, Cocos Nucifera (Coconut) Fruit Extract, Zingiber Officinale (Ginger) Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Powder, Olea Europaea (Olive) Leaf Powder, Tetrahexyldecyl Ascorbate, Honey (Mel), Allantoin, Saccharide Isomerate, Sodium Hyaluronate, Tocopheryl Acetate, Hexylene Glycol, Cetearyl Alcohol, Sodium Polyacryloyldimethyl Taurate, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA, Hydrogenated Polydecene, Polysorbate 60, Menthoxypropanediol, Cetyl Alcohol, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Avena Sativa (Oat) Bran Extract, Kaolin, Buteth-3, Trideceth-10, Benzophenone-4, Sodium Benzotriazolyl Butylphenol Sulfonate, Tris (Tetramethylhydroxypiperidinol) Citrate, Tributyl Citrate, Aminomethyl Propanol, Phenoxyethanol, Fragrance, Coumarin, Linalool.


請注意以上成分可能會不時更新,請參閱產品包裝上的產品成分,了解最新的成分內容。

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